Disciplina Curricular
Tecnologias de Filmes Finos TFF
Doutoramento Bolonha em Engenharia Física - 1_DEngFis 2015/16 a 2018/19
Peso
2.0 (para cálculo da média)
Objectivos
Explicar as diferentes técnicas de deposição de filmes finos e aplicações em ciência e na indústria. Demonstrar as vantagens e limitações de cada técnica para a deposição de materiais supercondutores, semicondutores e óxidos. Explicar o efeito dos parâmetros de deposição na estrutura dos filmes obtidos, desde os filmes granulares, a filmes epitaxiais e multicamadas.
Programa
Introdução às técnicas físicas e químicas de deposição de filmes finos. Pulverização catódica (MS); deposição por laser pulsado (PLD); epitaxia de feixe de iões (IBE); canhão de electrões (EBE) e evaporação térmica. Técnicas de deposição em fase gasosa (CVD) Aspectos técnicos e aplicações típicas em investigação científica e indústria. Técnicas de caracterização de filmes finos
Métodos de ensino e avaliação
Aulas teóricas / tutoriais para apresentação das diferentes técnicas e sistemas, e práticas de laboratório para utilização das técnicas disponíveis (PI-MOCVD, magnetron sputtering, canhão de electrões e evaporação térmica). No decorrer das aulas de laboratório serão realizados testes de deposição e preparação técnica das câmaras de deposição com o objectivo de treinar os estudantes na sua utilização.